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氧化铝陶瓷基片高效减薄和超光滑抛光加工研究
陈建新
阎秋生
潘继生
开通知网号
【摘要】:
对氧化铝陶瓷基片进行了系统的单面研磨抛光和双面研磨抛光试验,结果表明,单面研磨抛光相对双面研磨抛光具有明显的效率优势,获得单面研磨的优化条件为:研磨压力15.19 kPa,研磨转速40 r/min,研磨液流量10 ml/min,研磨液浓度8wt%;以...
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