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《半导体技术》 2014年11期
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不同结构nMOS管的总剂量辐射效应

闫旭亮   孟丽娅   袁祥辉   黄友恕   吕果林   开通知网号
【摘要】: X射线直接成像的CMOS图像传感器由于工作在X射线辐射下,其内部器件会因为辐射效应引起性能恶化,因此需要对器件进行抗辐射加固并研究辐射对器件参数的影响。辐射导致的氧化物陷阱电荷及界面陷阱电荷受到栅氧厚度、偏置电压大小、辐射总剂量以及剂量率等多种因素影...

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