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《半导体技术》 2025年05期
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基于瞬态漏源电流变化的SiC MOSFET陷阱表征

高博文   杜颖晨   张亚民   开通知网号
【摘要】:SiC MOSFET栅极氧化物附近存在的陷阱缺陷造成其在高温高压场景下出现许多可靠性问题。提出了完整的基于瞬态电流法的陷阱表征方案,结合贝叶斯迭代反卷积算法实现对陷阱位置、时间常数和激活能的表征。基于自建陷阱测试平台在栅极和漏极施加不同组合的电学偏置...

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